“我们的问题不仅仅是找不到，而是有些问题即便找到了，也没有办法解决。”

会议只是开始，会后，翟竖与沪州微电子的工程师们一同探讨着某些问题。

虽然工程师们也没有寄希望于翟竖能够解决，但既然翟竖问道了，他们也就如实回答了，根据最新的授权，除非绝密级，其他的东西可以对翟竖不设防。

“嗯。”

翟竖看着刚刚工程师们提出的一个问题，脑子里也在飞速的转圈，他在思考芯片生产过程中的一些细节。

既然同样的设备有一个能够达到一定的实验室良好水平，那说明元器件本身是有这个能力的，之所以良率差，肯定是工艺细节方面的原因。

“掩膜版与晶圆的对准工艺...”翟竖嘟哝着。

“是，掩膜版与晶圆的对准至关重要，它将直接限制芯片的集成密度和电路的性能。”立即就有工程师接话：

“步进扫描投影光刻机在对准的过程中，晶圆片并不直接对准掩膜，而是圆片和掩膜经过各自的光路，对准于曝光系统的光学链上。

“而这两个过程的精准匹配非常重要，些微的系统误差对芯片的性能就会产生影响。”

另一名工程师点了点头，肯定道：“是这样的没错，现在就有一个巨大的问题，当光刻机光源大量的光穿过掩膜时，不可避免的会造成掩膜材料的发热。

“热胀冷缩，这对于任何材料来说都是一个无法避免的，即便是掩膜版采用了热膨胀系数极低的材料，在0.71度的温度变化下也会产生0.1微米的膨胀。

“可不要小看这0.1微米，就是它造成的掩膜版和晶圆片的对准精度误差，从而影响了之后的曝光精度和制程工艺。”

“不可以对膨胀产生的误差利用光源系统进行补偿性的调整吗？”翟竖脱口而出。

“想都别想，微米级别的精度误差，1ms以内的补偿，别说我们，全世界都做不到！一方面是监测难，另一个方面，电子曝光系统的控制也非常困难。而且，一个微小的变化可能就会诱发出更多问题，甚至整个系统就要重新调整。”

工程师们不约而同的摇了摇头，翟竖的这个想法理论上没有问题，但实际上根本行不通。

无论是对于微膨胀的监测还是对电子曝光系统的控制都不是现在的技术能够做到的。

“听你们说了这么多，都是系统方面的问题。如果控制系统能够达到这样的精度，是不是这种方案就是可行的？”

翟竖显得有些激动，亅语言啊，那就是个神，如果真的只仅仅是控制系统问题，那这问题亅语言就能解决啊！

工程师们看着翟竖的反应，虽然内心不认可，但心里也有一些意动，不管成不成的，那么多方案都尝试过了，也不差这一回。

立即就地比对材料、探索方案，跟工程师们一起探究了大半天。

结束的时候都已经半夜了，最后得出结论：理论上是没有问题的。

精度本身的控制，除了材料那就是控制系统了，从材料上来说，只要能精确监测工作温度的变化，根据材料本身的性质就能计算出它的膨胀程度。

光源再有针对性的进行补偿调整，理论上是可以做到。

但理论仅仅只是理论，哪怕是世界上最顶尖的控制系统现在也没办法精确的做到光源系统的实时曝光补偿。

这对于系统的运算能力和指令时延要求太高了——按照推算，监测系统、控制系统以及光源曝光系统三个系统处理整个监测、控制、行动的逻辑加起来不能超过1ms级别。

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